隨著社會(huì)的不斷進(jìn)步光稽，人工智能暗膜、大數(shù)據(jù)與工業(yè)的全方位系統(tǒng)集成藏否，根據(jù)公司發(fā)展需要，
應(yīng)對未來市場敲茄，產(chǎn)品不斷升級(jí)位谋，10月份新研發(fā)產(chǎn)品氧化鋁靶材成功突破，
本研發(fā)項(xiàng)目有過硬的技術(shù)團(tuán)隊(duì)把控每道質(zhì)量工序堰燎，該產(chǎn)品投放市場后掏父，通過客戶試用，每項(xiàng)指標(biāo)均已達(dá)到使用標(biāo)準(zhǔn)引舱。

氧化鋁靶材具有以下特點(diǎn)：

1鹏亥、高化學(xué)純度，能夠更好地滿足電子工業(yè)的要求猬蕉；

 2脾飘、低雜質(zhì)含量，保證了膜層的純度和穩(wěn)定性薄好；

      3短连、良好的膜形成能力和穩(wěn)定性，有利于薄膜和涂層的均勻性和穩(wěn)定性唁底；

      4根术、優(yōu)異的化學(xué)性質(zhì)和熱穩(wěn)定性，能夠在高溫和惡劣的環(huán)境下穩(wěn)定工作溜信。

氧化鋁靶材主要應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

      1蜘傻、光學(xué)薄膜：用于制備高折射率的光學(xué)薄膜绷咳；

      2幸双、電子薄膜：用于制備金屬鋁、鎢位仁、鉬等金屬材料的電子薄膜柑贞；

      3、陶瓷工業(yè)：用于制備高溫陶瓷材料和瓷磚；

      4钧嘶、化學(xué)儀器：用于制造高溫化學(xué)反應(yīng)器和高溫儲(chǔ)罐等化學(xué)儀器棠众。

技術(shù)參數(shù)





 

*注：以上參數(shù)僅供參考，可根據(jù)客戶實(shí)際需求有决，適當(dāng)調(diào)整闸拿。